رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)

رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)

رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (Chemical Vapor Deposition) یکی از روش‌های لایه نشانی و پوشش دهی در خلا می باشد که برای تولید مواد با کیفیت، با کارایی بالا و جامد مورد استفاده قرار می گیرد. یکی از کاربردهای اساسی این روش در صنایع نیمه رسانا برای تولید لایه‌های نازک می باشد.

اطلاعات کلی

  • نام دستگاه: رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)
  • نام شرکت و کشور سازنده: نانوابتکار پایدار- ایران
  • هزینه استفاده از دستگاه: تماس بگیرید
  • نحوه رزرو دستگاه: برای تکمیل فرم، روی دکمه زیر کلیک نمایید
درخواست خدمت 2

رسوب دهی شیمیایی از فاز بخار (CVD)

  • دارای سه منطقه حرارتی با کنترل دمای مجزا برای هر ناحیه
  • قابلیت افزایش دمای هر ناحیه تا 900 درجه سانتی گراد 
  • دارای محفظه از جنس کوارتز

برخی از کاربردها

  •  افزایش خواص مکانیکی سطح
  • بهبود مقاومت به سایش، اکسیداسیون، تنش حرارتی
  •  ساخت سرامیک
  • ساخت قطعات نیمه رسانا
  • و …

نمونه‌های انجام شده

نمونه های داروئی و معدنی، انواع آلیاژها، مخلوط نمودن انواع خاک ها با آب، مخلوط گرافیت با قیر مایع و….